机译:使用三甲基铝和氟化氢的顺序暴露的Al2O3原子层蚀刻和Alf3原子层沉积的竞争
Univ Colorado Dept Chem &
Biochem Campus Box 215 Boulder CO 80309 USA;
Univ Colorado Dept Chem &
Biochem Campus Box 215 Boulder CO 80309 USA;
机译:使用三甲基铝和氟化氢的顺序暴露的Al2O3原子层蚀刻和Alf3原子层沉积的竞争
机译:使用顺序氟化氢和二甲基氨基氯化二甲烷曝光的Al 2 O 3,HFO 2和ZrO2的热原子层蚀刻
机译:三甲基铝和氟化氢沉积AlF3的原子层
机译:通过三甲基铝和氟化氢(PPT)的顺序反应,通过“转化蚀刻”机理的热原子层蚀刻。
机译:金属氧化物的原子层蚀刻和金属氟化物的原子层沉积。
机译:可逆氢等离子体功能化在石墨烯上均匀沉积Al2O3原子层
机译:使用三甲基铝,六甲基二硅脲和氟化氢的原子层沉积(ALF3)(LIF)X合金(LiF 3)X合金
机译:原位氢等离子体暴露原子层沉积al2O3在Gasb上的应用。