机译:离子富含等离子体放电通道对反向微电路放电加工异常高放电点的影响
Horni Bhabha Natl Inst Mumbai 400094 Maharashtra India;
Horni Bhabha Natl Inst Mumbai 400094 Maharashtra India;
Reverse micro electrical discharge machining (RMEDM); Discharging points; Voltage profile; Open circuit voltage (OCV); Ion-rich plasma discharge channel;
机译:离子富含等离子体放电通道对反向微电路放电加工异常高放电点的影响
机译:微电放电加工过程中等离子体通道形成的多发性模拟
机译:利用外部高压叠加方法改善放电加工开始时的不稳定放电的研究:外部叠加方法和内部叠加方法的比较以及外部叠加电压对加工特性的影响
机译:等离子体通道变化对电气放电加工表面拓扑的影响
机译:放电加工过程中的恢复时间的调查以及恢复时间对放电时间之间的影响的后果。
机译:微放电加工的电火花放电法制备纳米金胶体的参数
机译:微电路电加工中放电等离子体时变特性的研究