机译:用原子层沉积晶体基质薄膜中金属纳米粒子的平面内和外平面电性能的研究
Univ Lyon 1 Insa Lyon INL CNRS UMR 5270 7 Ave Jean Capelle F-69621 Villeurbanne France;
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Univ Lyon 1 Insa Lyon MATEIS CNRS UMR 5510 7 Ave Jean Capelle F-69621 Villeurbanne France;
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metallic nanoparticles; atomic layer deposition; electrical properties; shadow edge evaporation;
机译:用原子层沉积晶体基质薄膜中金属纳米粒子的平面内和外平面电性能的研究
机译:高k电介质原子层沉积Ge掺杂ZrO2薄膜的结构和电性能
机译:中空阴极等离子体辅助原子层沉积法生长AlN薄膜的电导和介电弛豫特性
机译:利用原子层沉积沉积的优化种子层改善SrTiO_3薄膜的生长行为和电性能
机译:通过原子层沉积进行金属栅/高k电介质堆叠工程:材料问题和电性能。
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:通过空心 - 阴极等离子体辅助原子层沉积生长AlN薄膜的导电和介电弛豫特性