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机译:用于间隔物的原子层沉积定义了亚10 NM二氧化钛特征的双图案化
Lawrence Berkeley Natl Lab Mol Foundry Berkeley CA 94720 USA;
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Lawrence Berkeley Natl Lab Mol Foundry Berkeley CA 94720 USA;
Seagate Technol 47010 Kato Rd Fremont CA 94538 USA;
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Lawrence Berkeley Natl Lab Mol Foundry Berkeley CA 94720 USA;
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double patterning; bit patterned media; atomic layer deposition; sequential infiltration synthesis; template fabrication;
机译:用于间隔物的原子层沉积定义了亚10 NM二氧化钛特征的双图案化
机译:通过原子层沉积获得具有10 nm半间距的纳米压印模板光栅,可进行间隔物双重图案化
机译:桥硅倍半氧烷前体的等离子体定义原子层沉积制得的亚10纳米厚微孔膜。
机译:区域选择性原子层沉积:使用光刻定义的聚合物掩膜层沉积二氧化钛
机译:使用四-二甲基酰胺基钛和水前体在硅和砷化镓衬底上沉积二氧化钛的原子层。
机译:原子层沉积法高效制备具有光催化活性的亚10 nm TiO2-Ga2O3n-p异质结的晶圆级制备
机译:用于间隔物的原子层沉积定义了亚10 NM二氧化钛特征的双图案化