首页> 中国专利> 一种用于制备均孔膜的嵌段共聚物及其制备孔径亚10nm均孔膜的方法

一种用于制备均孔膜的嵌段共聚物及其制备孔径亚10nm均孔膜的方法

摘要

本发明公开一种基于超分子作用力制备孔径亚10nm均孔膜的方法。所述方法利用超分子作用力克服低分子量嵌段聚合物难以微相分离的难题,促进嵌段聚合物的自组装,从而形成孔径小于10nm均孔膜的方法。所述方法的过程如下:将嵌段聚合物、添加剂、溶剂混合形成均相溶液,用刮刀将铸膜液在基底上铺展开,挥发一定时间后浸入凝固浴中相转化成膜。

著录项

  • 公开/公告号CN109400829A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 浙江工业大学;

    申请/专利号CN201811071682.X

  • 发明设计人 易砖;朱国栋;殷煜镕;

    申请日2018-09-13

  • 分类号C08F293/00(20060101);B01D67/00(20060101);B01D71/80(20060101);

  • 代理机构33200 杭州求是专利事务所有限公司;

  • 代理人黄欢娣;邱启旺

  • 地址 310014 浙江省杭州市下城区潮王路18号

  • 入库时间 2024-02-19 06:55:37

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-03-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):C08F293/00 申请日:20180913

    实质审查的生效

  • 2019-03-01

    公开

    公开

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