首页> 中国专利> 形成用于进行间隔物界定图案化的竖直间隔物的方法

形成用于进行间隔物界定图案化的竖直间隔物的方法

摘要

一种形成用于间隔物界定多重图案化的竖直间隔物的方法,其包括:在模板上沉积具有第一膜应力的第一共形图案转移膜,并且连续地沉积具有第二膜应力的第二共形图案转移膜;对所述模板中除芯材料和所述第一图案转移膜和所述第二图案转移膜的竖直部分以外的部分进行干式蚀刻以形成竖直间隔物;以及对所述芯材料进行干式蚀刻,从而在所述竖直间隔物之间形成空白空间,其中通过调整所述第一图案转移膜与所述第二图案转移膜之间的膜应力差异,调整所述间隔物的倾斜角度。

著录项

  • 公开/公告号CN109872947A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-06-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASM IP控股有限公司;

    申请/专利号CN201811473050.6

  • 发明设计人 智广久保田;须佐吉雄;

    申请日2018-12-04

  • 分类号

  • 代理机构上海专利商标事务所有限公司;

  • 代理人胡嘉倩

  • 地址 荷兰阿尔梅勒

  • 入库时间 2024-02-19 10:28:50

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-06-11

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号