机译:高温退火在Si上热SiO2的结构降解:缺陷的产生-艺术。没有。 045307
Electron-spin-resonance; Si-29 hyperfine-structure; Induced interface degradation; P-b defects; (111)si/sio2 interface; Molecular-hydrogen; Amorphous sio2; High-purity; Si-sio2 interface; Oxidized silicon;
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机译:Si / SiO2中P-b型界面缺陷的频率依赖性电子自旋共振研究-艺术。没有。 165320
机译:高硼离子注入发射极高温快速热退火后晶体缺陷的电学和结构分析
机译:高温脉冲电子辐照下n-Si中VO缺陷的累积:生成和退火动力学,取决于辐照强度
机译:在高压,高温流量反应器中产生部分气化匹兹堡的结构特征和CO2反应性。
机译:快速注热退火后注入低通量Si +的SiO2薄膜在室温下的光致发光位移
机译:快速热退火对电子回旋共振沉积的SiO2和SiNx:H薄膜的结构性质和缺陷密度的影响
机译:BF sub 2+ - 嵌入和快速热退火硅结构缺陷的起源:无缺陷再生的条件