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【24h】

MOCVD法により作製したGaAs基板上GaInNAs埋め込みInAs量子ドットレーザの1.3μm帯室温連続発振

机译:通过MOCVD法在GaAs衬底上嵌入GaInNAs的InAs量子点激光器的1.3μm室温连续振荡

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摘要

GaAs基板上の量子ドットレーザは,低しきい値電流密度,温度無依存性や高速変調時の波長チャープが小さい等の特徴から,高性能な光通信用1.3μm帯光源として研究が進められている.今回我々は,MOCVD法による量子ドットレーザの作製において,InAs量子ドットの歪み緩和層にGaInNAs層を用いることで発振波長の長波長化を試み,波長1.31μmにおける低しきい値電流密度0.4kA/cm{sup}2での室温連続発振を達成した.
机译:由于GaAs基板上的量子点激光器具有诸如低阈值电流密度,温度独立性和高速调制过程中的小波长分布等特性,因此已被研究用作高性能1.3μm波段光通信光源。有。这次,在通过MOCVD法制造量子点激光器的过程中,我们尝试通过使用GaInNAs层作为InAs量子点的畸变弛豫层来延长振荡波长,并试图延长振荡波长和低阈值电流密度0.4 kA /在cm {sup} 2处实现了连续的室温振荡。

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