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アークプラズマ蒸着源を用いた低摩擦係数DLC膜と耐熱性を有する超微結晶ナノダイヤモンド(UNCD)膜

机译:使用电弧等离子体气相沉积源的低摩擦系数DLC膜和具有耐热性的超细晶体纳米金刚石(UNCD)膜

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摘要

炭素系材料に基づく新材料が開発され,産業界において様々な分野で使われている。商品に応用された炭素系材料は,鉛筆の芯からダイヤモンドまで様々ある。2010年のノーベル物理学賞では半導体や透明電極など幅広い応用の可能性があるグラフェンを発見したAndre Geim氏とKonstantin Novoselov氏が受賞した。これが契機となり,新規炭素系材料の開発がますます盛んに行われている。本稿では,特にダイヤモンドライクカーボン(DLC)と超ナノ微結晶ダイヤモンド(Ultra Nano Crystalline Diamond:以下,UNCD)について紹介する。ここでは通常の,プラズマCVD方式で作られるものではなく,アークプラズマ蒸着源(正式名称は同軸型真空パルスアーク蒸着源)を用いた物理的な成膜手法を用いてDLCとUNCDを形成した例を紹介する。
机译:已经开发了基于碳基材料的新材料,并将其用于工业领域的各个领域。从铅笔芯到钻石,有各种各样的碳基材料应用于产品。在2010年诺贝尔物理学奖上,安德烈·吉姆(Andre Geim)和康斯坦丁·诺沃塞洛夫(Konstantin Novoselov)发现了具有广泛应用潜力的石墨烯,例如半导体和透明电极,并获得了奖项。以此为契机,新型碳基材料的开发变得越来越活跃。在本文中,我们将特别介绍类金刚石碳(DLC)和超纳米晶金刚石(UNCD)。在此,代替使用通常的等离子体CVD法而使用电弧等离子体蒸镀源(正式名称为同轴真空脉冲电弧气相沉积源),通过物理成膜法形成DLC和UNCD的例子。介绍。

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