首页> 中国专利> 直流电弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法

直流电弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法

摘要

本发明提供了直流电弧等离子体化学气相沉积装置及金刚石涂层方法。该涂层装置由阴极部分、阳极、真空室、真空泵系统、压力测控装置、直流电弧弧柱、制品架、电源、磁场线圈组成;阴极部分(1)和阳极(8)处于圆桶状真空室(2)轴线的两端;一对磁场线圈(12)、(13)同轴地处于真空室(2)外的上下两侧;真空室(2)与真空泵系统(3)、压力测量和控制装置(4)由真空管路相连接。阴极部分(1)由阴极杆(6)、阴极体(7)、保护气体通道体(14)、反应气体通道体(15)以及绝缘体(17)、(18)所组成;在保护气体通道体(14)、反应气体通道体(15)的下方是阴极喷口(16)。本发明的优点在于:寿命与结构稳定性将大幅度的改善并可靠性提高,显著的改善金刚石涂层质量。

著录项

  • 公开/公告号CN100335677C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2007-09-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京科技大学;

    申请/专利号CN200410101845.6

  • 申请日2004-12-28

  • 分类号C23C16/503(20060101);C23C16/27(20060101);

  • 代理机构北京科大华谊专利代理事务所;

  • 代理人刘月娥

  • 地址 100083 北京市海淀区学院路30号

  • 入库时间 2022-08-23 08:59:34

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2011-03-16

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/503 授权公告日:20070905 终止日期:20100128 申请日:20041228

    专利权的终止

  • 2007-09-05

    授权

    授权

  • 2005-08-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-06-29

    公开

    公开

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号