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Diamond coatings synthesis by means of chemical vapour deposition using the DC electric arc plasmotron

机译:使用直流电弧等离激元通过化学气相沉积法合成金刚石涂层

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摘要

A DC arc jet system for diamond filmdeposition using Ar,H2 and CH5 gases is described.Dependencies of mass growth rate, deposition area, CH4to diamond conversion coefficient on processcondition are presented. Electron microscopy andRaman spectroscopy confirm the possibility to grow ofhigh quality diamond films by this technique.
机译:描述了一种使用Ar,H2和CH5气体进行金刚石膜沉积的直流电弧喷射系统。提出了质量增长率,沉积面积,CH4对金刚石转化系数的依赖关系。电子显微镜和拉曼光谱证实了通过该技术生长高质量金刚石膜的可能性。

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