高規則性アルミナナノホールアレーを用いたナノインプリントプロセスにもとづく反射防止構造の形成

摘要

陽極酸化ポーラスアルミナを用いたナノインプリント法によるモスアイ構造の形成と反射防止特性評価について我々の研究成果を紹介した。モスアイ構造は，従来の反射防止コーティングで問題となる波長依存性，入射角依存性が小さいことから様々な光学部品への応用が期待されており，実用化にむけて大面積かつ高スループットに形成可能な技術の確立が求められている。陽極酸化ポーラスアルミナは，大面積化に対応できることに加え，その表面微細構造をナノスケールで高度に制御することが可能であるため，様々な用途に適したモスアイ構造を形成するためのナノインプリント用モールドとして有望である。今後，モスアイ構造にもとづく反射防止層を様々な分野に応用していく上で，本稿で紹介した手法が基盤技術として広く利用されることが期待される。