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Thermal annealing behaviour of Ni/Au on n-GaN Schottky contacts

机译:Ni / Au在n-GaN肖特基接触上的热退火行为

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摘要

The Schottky behaviour of Ni/Au contact on n-GaN was investigated under various annealing conditions by current-voltage (I-V) measurements. A non-linear fitting method was used to extract the contact parameters from the I-V characteristic curves. Experimental results indicate that high quality Schottky contact with a barrier height and ideality factor of 0.86 +/- 0.02 eV and 1.19 +/- 0.02 eV, respectively, can be obtained under 5 min annealing at 600degreesC in N-2 ambience. [References: 22]
机译:通过电流-电压(I-V)测量,研究了在各种退火条件下,n / GaN上Ni / Au接触的肖特基行为。使用非线性拟合方法从I-V特性曲线中提取接触参数。实验结果表明,在N-2气氛中,在600℃退火5分钟后,可以获得分别具有0.86 +/- 0.02 eV和1.19 +/- 0.02 eV的势垒高度和理想因子的高质量肖特基接触。 [参考:22]

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