机译:使用172nm VUV洪水曝光进行双成像的光致抗蚀剂图案冻结研究
Double patterning; resist stabilization; pattern distortion; 172nm cure;
机译:使用172nm VUV洪水曝光进行双成像的光致抗蚀剂图案冻结研究
机译:非面漆自冻结光致抗蚀剂,用于双重图案化工艺
机译:通过在光刻胶中直接激光写入产生的潜在三维曝光图案的成像
机译:衰减相移掩模上具有172nm和193nm背面洪水泛光的自对准电阻图案
机译:光刻过程中光致抗蚀剂图案的塌陷研究
机译:年轻成年癌症的长期幸存者的诊断成像和相关放射线照射模式:一项基于人群的队列研究
机译:使用172NM VUV洪水暴露的双成像冻结光致抗蚀剂图案研究