法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-03-29
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/039 申请日:20180316
实质审查的生效
2019-03-05
公开
公开
机译: 执行后蚀刻过程的双层光致抗蚀剂聚合物,包含该光致抗蚀剂的组合物以及使用该光致抗蚀剂图案制造光致抗蚀剂图案的方法
机译: 用于制造探针阵列的光致抗蚀剂组合物,使用该光致抗蚀剂组合物的探针阵列的制造方法,用于光敏型显影的底部抗反射涂层的组合物,使用其的图案的制造方法以及使用该图案的半导体器件的制造方法
机译: 正性光致抗蚀剂组合物,光致抗蚀剂叠层,光致抗蚀剂图案制造方法和连接端子制造方法