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机译:使用172NM VUV洪水暴露的双成像冻结光致抗蚀剂图案研究
Masanori Yamaguchi; Thomas Wallow; Yohei Yamada; Ryoung-Han Kim; Jongwook Kye; Harry J. Levinson;
机译:使用172nm VUV洪水曝光进行双成像的光致抗蚀剂图案冻结研究
机译:非面漆自冻结光致抗蚀剂,用于双重图案化工艺
机译:衰减相移掩模上具有172nm和193nm背面洪水泛光的自对准电阻图案
机译:光刻过程中光致抗蚀剂图案的塌陷研究
机译:年轻成年癌症的长期幸存者的诊断成像和相关放射线照射模式:一项基于人群的队列研究
机译:用于双图案化过程的非面涂层自冻光致抗蚀剂
机译:用于涂覆光致抗蚀剂图案的聚合物,能够减小第一光致抗蚀剂图案的线宽并在第一光致抗蚀剂图案的线之间的空间上形成双图案的方法以及形成半导体图案的方法
机译:在单个光刻胶层中使用双重曝光工艺进行层图案化
机译:在单光阻层中使用双重曝光过程进行层构图
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