机译:使用SiO2硬掩模和基于氟的干法刻蚀可降低侧壁粗糙度的低损耗硅波导
silicon waveguide; silicon-on-insulator; SiO2; SF6; CF4; reactive ion etching;
机译:使用SiO2硬掩模和基于氟的干法刻蚀可降低侧壁粗糙度的低损耗硅波导
机译:使用干法刻蚀硅和SiO {sub} 2解决侧壁粗糙度
机译:使用电容耦合等离子体反应器优化具有光滑侧壁的多晶硅波导的干法刻蚀参数
机译:通过各向异性湿法刻蚀制造的低损耗硅矩形波导,以降低粗糙度
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:不同氟基混合气体使用电感耦合等离子体干法刻蚀钛酸钡薄膜的比较分析
机译:使用各向异性湿法蚀刻实现具有硅(111)表面的低损耗缝隙波导