Si (110) plane; Tetra-Methyl-Ammonium-Hydroxide; propagation loss; silicon photonics; waveguide;
机译:使用各向异性湿蚀刻技术制造的低损耗硅波导和光栅耦合器
机译:使用SiO2硬掩模和基于氟的干法刻蚀可降低侧壁粗糙度的低损耗硅波导
机译:使用各向异性湿蚀刻实现具有硅(111)表面的低损耗缝隙波导
机译:通过各向异性湿法蚀刻制造的低损耗硅矩形波导,用于减少粗糙度
机译:具有耦合器的平面波导太阳能聚光器,该耦合器由激光诱导的背面湿法刻蚀制成。
机译:氢氧化四甲铵/异丙醇湿法刻蚀对AFM光刻制备的硅纳米线的几何形状和表面粗糙度的影响
机译:采用各向异性湿法刻蚀技术制作低损耗硅波导和光栅耦合器