机译:硅减压化学气相沉积外延层中非均匀砷分布的受控生长
Si epitaxy; reduced-pressure chemical vapor deposition (RPCVD); As doping; surface segregation; varactor diodes;
机译:硅减压化学气相沉积外延层中非均匀砷分布的受控生长
机译:Sih_4和Geh_4在减压化学气相沉积中外延生长Sige的解析模型
机译:使用水平热壁化学气相沉积法在直径为150毫米的晶片上生长碳化硅外延层
机译:大晶粒多晶硅模板上外延硅生长的热线化学气相沉积
机译:通过金属有机化学气相沉积外延生长碳化硅和氮化铝的层状结构。
机译:通过化学气相沉积在铜上可控制地将石墨烯从毫米大小的单层生长到多层
机译:硅还原化学气相沉积外延层中非均匀砷形态的可控生长
机译:使用热线化学气相沉积在低温下生长同质外延硅