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机译:二氧化铈磨料在二氧化硅和氮化硅CMP上的抛光行为
Ceria; Chemical mechanical polishing (CMP); Grain growth accelerator; Flux method; Sintering process;
机译:二氧化铈磨料在二氧化硅和氮化硅CMP上的抛光行为
机译:二氧化铈单晶磨料在二氧化硅和氮化硅CMP上的抛光行为
机译:添加剂与用于抛光二氧化硅和氮化硅膜的二氧化铈磨料之间的络合
机译:先进陶瓷(氮化硅)和玻璃(二氧化硅)磁浮法抛光(MFP)中的化学机械抛光(CMP)
机译:用于微电子应用中的多晶硅,二氧化硅和氮化硅膜化学机械抛光的新型浆料配方和相关机理。
机译:气相沉积的二氧化硅和氮化物微通道中的电渗流
机译:利用多功能扩展热等离子体技术获得高质量沉积的氮化硅,二氧化硅和非晶硅获得的高质量表面钝化
机译:在冷基板硅上沉积单晶硅,二氧化硅和氮化硅的研究