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含有二氧化铈粉体与胶体二氧化硅混合磨料的抛光液及其制备工艺

摘要

本发明涉及一种化学机械抛光液及其制备工艺,具体的说是一种含有二氧化铈粉体与胶体二氧化硅混合磨料的抛光液及其制备工艺,这种混合磨料抛光液制备工艺简单、实用、易于生产,采用的原料为:3%‑10%的粒径为100‑2000nm的二氧化铈粉体,5%‑50%的粒径为10‑200nm的胶体二氧化硅,0.001%‑0.5%分散剂,其余为水;制备时选取容器,先加入胶体二氧化硅溶液,然后加入二氧化铈粉体并搅拌均匀,并添加分散剂及水至所需体积并搅拌均匀即可。其采用不同粒径的二氧化铈粉体与胶体二氧化硅作为磨料,所制备的抛光液中,小的二氧化硅颗粒降低划痕,凹坑等缺陷,改善表面质量,大的二氧化铈颗粒获得高的去除速率。

著录项

  • 公开/公告号CN103992743B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2018-06-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 杰明纳微电子股份有限公司;李维民;

    申请/专利号CN201410195956.1

  • 发明设计人 李维民;陈杏辉;

    申请日2014-05-09

  • 分类号C09G1/02(20060101);

  • 代理机构44217 深圳市顺天达专利商标代理有限公司;

  • 代理人郭伟刚

  • 地址 中国香港中环德己笠街38-44号好利商业大厦D座6层

  • 入库时间 2022-08-23 10:12:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-06-19

    授权

    授权

  • 2016-08-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09G1/02 申请日:20140509

    实质审查的生效

  • 2014-08-20

    公开

    公开

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