公开/公告号CN103992743B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-06-19
原文格式PDF
申请/专利权人 杰明纳微电子股份有限公司;李维民;
申请/专利号CN201410195956.1
申请日2014-05-09
分类号C09G1/02(20060101);
代理机构44217 深圳市顺天达专利商标代理有限公司;
代理人郭伟刚
地址 中国香港中环德己笠街38-44号好利商业大厦D座6层
入库时间 2022-08-23 10:12:22
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-06-19
授权
授权
2016-08-17
实质审查的生效 IPC(主分类):C09G1/02 申请日:20140509
实质审查的生效
2014-08-20
公开
公开
机译: 通过用包含胶体二氧化硅磨料颗粒的碱性抛光液进行抛光来生产用于掩模坯料的玻璃基板的方法
机译: 含有二氧化铈和胶体二氧化硅的分散液
机译: 基于二氧化铈的复合细颗粒分散体,其制备方法,含有基于二氧化铈的复合细颗粒分散体的磨料磨料分散体