Clarkson University.;
机译:新型α-胺官能化二氧化硅基分散体,用于在化学机械抛光过程中在二氧化硅,氮化硅或铜上选择性抛光多晶硅和Si(100)
机译:聚二烯丙基二甲基氯化铵在二氧化硅和氮化硅膜上多晶硅选择性抛光中的作用
机译:用于在二氧化硅和多晶硅膜上选择性抛光氮化硅的新型磷酸盐官能化二氧化硅基分散体
机译:先进陶瓷(氮化硅)和玻璃(二氧化硅)磁浮法抛光(MFP)中的化学机械抛光(CMP)
机译:化学机械抛光过程中可调节的二氧化硅,氮化硅和多晶硅膜的去除率。
机译:通过片上测试对多晶硅膜的力学和几何特性进行统计研究
机译:二氧化硅,氮化硅和多晶硅膜的可调去除速率