机译:空位缺陷和过渡金属掺杂对砷的影响:第一性原理研究
Henan Univ Sci & Technol, Coll Phys & Engn, Luoyang 471023, Peoples R China;
Henan Univ Sci & Technol, Coll Phys & Engn, Luoyang 471023, Peoples R China|Henan Univ Sci & Technol, Henan Key Lab Photoelect Energy Storage Mat & App, Luoyang 471023, Peoples R China;
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