机译:AlN成核层对高电阻率Si(111)衬底上GaN缓冲器的RF传输损耗的影响
Natl Chiao Tung Univ Dept Mat Sci & Engn Univ Rd 1001 Hsinchu 30010 Taiwan;
IMEC Kapeldreef 75 B-3001 Leuven Belgium;
AlN nucleation layer; coplanar waveguides; GaN on Si; high frequency; RF loss; metalorganic chemical vapor deposition;
机译:AlN缓冲层厚度对AlGaN夹层在Si(111)衬底上生长的GaN外延层结构性能的影响
机译:Al预沉积对在Si(111)衬底上生长的AlN缓冲层和GaN层性能的影响
机译:,AlN缓冲层生长对(111)Si衬底上沉积的AlGaN / GaN膜的影响
机译:AlN缓冲层生长对(111)Si衬底上沉积的AlGaN / GaN膜的影响
机译:用于AlGaN / GaN和InAlN / GaN二极管以及在硅(111)衬底上生长的高迁移率晶体管的CMOS兼容氧化钌肖特基接触的研究。
机译:应变松弛对在具有溅射AlN成核层的4英寸蓝宝石衬底上生长的InGaN / GaN绿色LED的性能的影响
机译:alN成核层诱导应变对si(111)衬底上alGaN / GaN异质结电性能的影响