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東北大、東大が室温かつ低磁場な環境でもフォノンがスピン流を増幅することを実証

机译:东北大学和东京大学证明,声子甚至在室温和低磁场环境下也能放大自旋电流

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摘要

東北大学材料科学高等研究所のRafael Ramos(ラファエルラモス)助教と橋本祐介助教、東北大学金属材料研究所の日置友智氏(大学院博士課程•日本学術振興会特別研究員)、東北大学材料科学高等研究所•金属材料研究所の吉川貴史助教と東京大学大学院工学系研究科の齊藤英治教授(東北大学材料科学高等研究所•金属材料研究所兼任)らはLu_2BiFe_4GaO_(12)からなる薄膜を作製し、この試料において、室温かつ低磁場な環境においても音波(フォノン)がスピン流を増幅することを明らかにした。
机译:东北大学新材料科学研究所Rafael Ramos东北大学材料研究所助理教授和桥本佑介(Toshihi Hioki)研究生(博士课程,日本科学促进会特别研究员),东北大学新材料科学研究所Tokoro•材料研究所的助理教授吉川隆史(Takashi Yoshikawa)和东京大学工程研究生院的斋藤荣治教授(东北大学高级材料科学研究所•材料研究所同时任职)等人制作了Lu_2BiFe_4GaO_(12)薄膜,在该样品中,澄清了即使在室温和低磁场环境下,声波(声子)也会放大自旋电流。

著录项

  • 来源
    《电波新闻》 |2019年第17791期|16-16|共1页
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  • 作者单位
  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-18 04:41:57

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