机译:用于微光刻和相关高级聚合物材料的抗蚀剂的开发
Cornell University;
机译:开发用于微光刻的新型先进抗蚀剂材料
机译:157nm微光刻用含氟聚合物抵抗材料
机译:烯烃复分解聚合:近期在精确聚合的近期发展,用于合成先进材料(通过竞争,呼叫)
机译:用于157 nm微光刻的抗蚀剂材料:更新
机译:用于高级微光刻的材料:用于157 nm光刻和酸扩散测量的聚合物。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:开发新型抗蚀剂材料的微光线
机译:用于高级微光刻的聚合物抗蚀剂系统