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Development of Resists for Microlithography and Related Advanced Polymeric Materials

机译:用于微光刻和相关高级聚合物材料的抗蚀剂的开发

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摘要

Christopher K. Ober氏はカナダ生まれで、1978年にゥォータールー大学を卒業後、米国マサチューセッツ大学大学院高分子科学工学専攻で、1980年に修士、1982年に博士の学位を取得した。その後、カナダゼロックス研究所にて4年間、博士研究員および研究員を務めた。1986年に米国コーネル大学材料科学工学専攻の助教に着任し、1992年に准教授、1998年に教授に昇任した。その後、同大学にて、Director、Associate Dean of Enginnering、Interim Dean of Engineeringの要職を兼務しながら、現在に至る。
机译:Christopher K. Ober生于加拿大,于1978年毕业于滑铁卢大学,并于1980年获得硕士学位,并于1982年获得马萨诸塞大学高分子科学与工程研究生院的博士学位。在那之后,他在加拿大施乐研究所担任了四年的博士后研究员。 1986年,他成为美国康奈尔大学材料科学与工程系的助理教授,并于1992年晋升为副教授,并于1998年晋升为教授。之后,他在同一所大学继续他的职业生涯,同时担任董事,工程副院长和工程临时院长。

著录项

  • 来源
    《高分子》 |2013年第5期|269-269|共1页
  • 作者

    Christopher Kemper Ober;

  • 作者单位

    Cornell University;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

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