机译:开发用于微光刻的新型先进抗蚀剂材料
poly(methyl 2-trifluoromethylacrylate); poly(isopropenyl t-butyl ketone); polymethylglutarimide; chemical amplification; photochemical acid generators; acid-catalyzed deprotection; tBOC; APEX; ESCAP; fluoroalcohol;
机译:用于微光刻和相关高级聚合物材料的抗蚀剂的开发
机译:用于高级光刻的负色调显影的功能抗蚀剂材料
机译:用于高级光刻的负色调显影的功能抗蚀剂材料
机译:用于高级光刻中负色调显影的功能性抗蚀剂材料
机译:用于高级微光刻的材料:用于157 nm光刻和酸扩散测量的聚合物。
机译:使用薄的适形的电阻传感器对软材料中的热传输特性进行定量表征的先进方法
机译:开发新型抗蚀剂材料的微光线
机译:设计用于微光刻的抗蚀材料