Electrical Conduction Mechanisms of Nitrogenated Amorphous Carbon Films Deposited by High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition

著录项

• 来源
  《Plasma processes and polymers》 |2005年第6期|454-457|共4页
• 作者

  Marciel Guerino; Ana P. Mousinho; Marcos Massi; Ronaldo D. Mansano;

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• 作者单位

  LPP Departamento de FÍsica Instituto TecnolÓgico da AeronÁutica CTA PÇ. Mal. Eduardo Gomes 50 12228-900 S.J.Campos SP Brazil;

  LaboratÓrio de Sistemas IntegrÁveis da Escola PolitÉcnica da Universidade de SÃo Paulo Av. Prof. Luciano Gualberto trav. 3 153 05508-900 SÃo Paulo SP Brazil;

  LPP Departamento de FÍsica Instituto TecnolÓgico da AeronÁutica CTA PÇ. Mal. Eduardo Gomes 50 12228-900 S.J.Campos SP Brazil;

  LaboratÓrio de Sistemas IntegrÁveis da Escola PolitÉcnica da Universidade de SÃo Paulo Av. Prof. Luciano Gualberto trav. 3 153 05508-900 SÃo Paulo SP Brazil;

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• 收录信息
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类
• 关键词

  conduction mechanisms; electrical (electronic) properties; high-density plasma; nitrogenated amorphous carbon films;

  机译：传导机理;电（电子）性能;高密度等离子体;氮化非晶碳膜;