...
机译:等离子体增强化学气相沉积在颗粒状固态材料上以改善粉末加工
Institute of Process Engineering ETH Zurich 8092 Zurich Switzerland;
Institute of Process Engineering ETH Zurich 8092 Zurich Switzerland;
Institute of Process Engineering ETH Zurich 8092 Zurich Switzerland;
Institute of Process Engineering ETH Zurich 8092 Zurich Switzerland;
Institute of Process Engineering ETH Zurich 8092 Zurich Switzerland;
hexamethyldisiloxane (HMDSO); particles; plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD); powder compressibility; powder flowability;
机译:在等离子增强化学气相沉积工艺中同时加入气态和固态原料制备纳米粒子包埋的薄膜
机译:掺杂对GetE相变材料薄膜的影响通过创新的等离子体增强的金属化学气相沉积工艺获得的薄膜
机译:通过等离子增强化学气相沉积-涂有AlxOy或SiOCH包封层的Ag-SiOCH复合材料的物理气相沉积,对用于食品加工行业的纺织品进行抗菌整理
机译:等离子体增强化学气相沉积和热化学气相沉积种植的碳纳米管特性的比较
机译:固态材料的分子前体:I.〜含M个三键M中心(M =钼和钨)的醇盐的热解。 II。〜远程等离子体增强化学气相沉积(RPECVD)设施的建设
机译:使用埋入式通道设计提高等离子体增强化学气相沉积SiO2波导的环境稳定性
机译:离子沉积 - 离子在等离子体增强的化学气相沉积,等离子体增强原子层沉积,以及面积选择性沉积的应用