机译:在改性晶片上制造的部分耗尽SOI pMOSFET的异常热载流子效应分析
Chinese Acad Sci Shanghai Inst Microsyst & Informat Technol State Key Lab Funct Mat Informat Shanghai 20050 Peoples R China|Univ Chinese Acad Sci Beijing 10004 Peoples R China;
Chinese Acad Sci Shanghai Inst Microsyst & Informat Technol State Key Lab Funct Mat Informat Shanghai 20050 Peoples R China;
Hot-carrier effect; Partially depleted SOI; pMOSFETs; Silicon ion implantation; Electron traps;
机译:在改性晶片上制造的130nm部分耗尽SOI NMOSFET中,热电子注入引起的异常电性能
机译:130 nm部分耗尽的SOI pMOSFET中的辐射增强型栅极感应的漏漏电流
机译:由于部分n +多晶硅栅极中的直接隧穿电流,在部分耗尽的SOI pMOSFET中产生了新的浮体效应
机译:具有超薄栅极电介质的部分耗尽SOI MOSFET的DC和AC热载流子特性
机译:部分耗尽的SOI CMOS中的辐射硬化模拟电路。
机译:具有部分已知支持的修正压缩感测的可恢复性分析
机译:在改进的晶片上制造的130nm部分耗尽的SOI PMOSFET中由热载体注射诱导的降解
机译:采用0.25微米全耗尽sOI CmOs工艺制造的晶体管的热载流子可靠性