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机译:SiC(11-20)上的纳米长方形单外延石墨烯层
IMB-CNM-CSIC, Campus UAB, 08193-Bellaterra, Barcelona, Spain;
IMB-CNM-CSIC, Campus UAB, 08193-Bellaterra, Barcelona, Spain,GES-CNRS 5650, Universite Montpellier 2, 34095 Montpellier Cedex 5, France;
IMB-CNM-CSIC, Campus UAB, 08193-Bellaterra, Barcelona, Spain;
ICMAB-CSIC, Campus UAB, 08193-Bellaterra, Barcelona, Spain;
IMB-CNM-CSIC, Campus UAB, 08193-Bellaterra, Barcelona, Spain;
epitaxial graphene; sic(11-20); raman spectroscopy.;
机译:SiC(0001)上外延石墨烯生长初期[11-20]步骤的稳定性和反应性
机译:在SiC(0001)上生长的多层外延石墨烯的(相称)畴与单层电子行为的相关性
机译:表面活性剂介导的单层石墨烯的外延生长在SIC上的非传统方向
机译:SiC(11-20)上的纳米长方形单外延石墨烯层
机译:基于4H-SiC N型外延层和像素Cdznte单晶装置的高分辨率辐射检测器
机译:SiC上生长的超低孔密度单层外延石墨烯的磁阻
机译:外延石墨烯的单层金属性和界面磁性 在siC上(000 $ \ bar {1} $)