机译:Si / SiGe异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀
Materials Science Program, University of Wisconsin-Madison, Madison, Wisconsin 53706;
机译:碳氟化合物ICP等离子体中Si和SiO2的蚀刻机理:通过质谱,朗缪尔探针和光发射光谱法分析等离子体
机译:氟碳等离子体中的SiO_2和Si蚀刻:与完整的等离子体和轮廓模拟器耦合的详细表面模型。
机译:感应耦合氟碳等离子体在接触孔蚀刻中反应离子蚀刻滞后的偏置功率依赖性
机译:等离子刻蚀对应变Si / SiGe / Si异质结构的破坏
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:腔室壁对使用循环Ar / C4F8等离子体的氟碳辅助的SiO2原子层蚀刻的影响
机译:在加氢的碳氟化合物(CF 4 ∕ Ar ∕ H 2和C 4 F 8 ∕ Ar ∕ H 2)等离子体中的Si上选择性刻蚀高kk HfO 2膜
机译:siGe / si异质结构上siGe的选择性刻蚀