机译:从蚀刻的角度来看,阶梯式和快速压印光刻模板的特性
Motorola Labs, Microelectronics and Physical Sciences Laboratory, Tempe, Arizona 85284;
机译:使用基于铟锡氧化物的步骤和快速压印光刻模板表征和压印结果
机译:在分步闪光压印光刻模板中模拟制造和压印变形
机译:蚀刻阻挡层致密化对阶梯式和快速压印光刻的影响
机译:阶跃和闪光压印平版印刷的晶圆的电缺陷表征
机译:具有成本效益的压印模板制造,用于分步和快速压印光刻。
机译:通过全晶圆和卷对卷分步闪光纳米压印光刻技术生产的塑料基板单层宽带抗反射涂层
机译:评估Imprio 100步骤和闪存压印光刻工具
机译:用胶体分散体制备三维压印光刻模板