机译:在碳氟化合物等离子体中进行SiO_2蚀刻期间,在侧壁上重新沉积蚀刻产物。 Ⅲ。 O_2加入CF_4血浆的影响
School of Chemical Engineering and Institute of Chemical Processes, Seoul National University, San 56-1, Shillim-dong, Kwanak-ku, Seoul 151-744, Korea;
机译:在碳氟化合物等离子体中进行SiO_2蚀刻期间,在侧壁上重新沉积蚀刻产物。 Ⅱ。 CF_4等离子体中源功率和偏置电压的影响
机译:在碳氟化合物等离子体中进行SiO_2蚀刻期间,在侧壁上重新沉积蚀刻产物。 IV。 CF_4等离子体中基板温度的影响
机译:在碳氟化合物等离子体中进行SiO_2蚀刻期间,在侧壁上重新沉积蚀刻产物。五,等离子气体中碳/氟比的影响
机译:CF_4,CL_2和N_2和NO_2 ECR等离子体的添加对Ru_2膜的蚀刻速率,选择性和蚀刻轮廓的影响
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:腔室壁对使用循环Ar / C4F8等离子体的氟碳辅助的SiO2原子层蚀刻的影响
机译:硅等离子刻蚀过程中的两种表面粗糙处理模式:电离刻蚀产物的作用
机译:用于监测氯 - 氦等离子体中多晶硅的等离子体蚀刻期间的蚀刻均匀性的光学诊断仪器。