机译:全芯片计算光刻中的两层临界尺寸和覆盖工艺窗口特性以及改进
Mentor Graphics Corporation, 8005 Southwest Boeckmann Road, Wilsonville, Oregon 97070, United States;
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edge placement error; overlay; optical proximity correction; verification; simulation; computational lithography; double patterning;
机译:在65纳米和45纳米技术节点的双偶极光刻技术中,潜在的曝光工具引起的临界尺寸和重叠误差的大小
机译:批量生产的关键尺寸控制向前迈出了一步:通过光刻和蚀刻工艺的跨晶圆级关键尺寸控制
机译:直写式无掩模光刻系统的压缩算法的全芯片表征
机译:用于高级逻辑节点两次曝光过程的缺陷表征,覆盖和临界尺寸控制的引擎
机译:极端紫外光刻的临界尺寸误差预算的表征
机译:通过提高精度的电子束光刻覆盖层来制造三维悬浮层间和分层纳米结构
机译:直写式无掩模光刻系统的压缩算法的全芯片表征