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机译:通过电感耦合等离子体反应离子刻蚀在金刚石表面上快速平滑
Institute for Advanced Materials and Technology University of Science and Technology Beijing Beijing 100083 People's Republic of China School of Engineering University of Leicester Leicester LE1 7RH U.K.;
Institute for Advanced Materials and Technology University of Science and Technology Beijing Beijing 100083 People's Republic of China;
School of Engineering University of Leicester Leicester LE1 7RH U.K.;
School of Materials Science and Engineering University of Science and Technology Beijing Beijing 100083 People's Republic of China;
机译:电感耦合等离子体反应离子刻蚀(ICP-RIE)的多晶金刚石表面形貌演变
机译:电感耦合等离子体反应离子刻蚀(ICP-RIE)的多晶金刚石表面形貌演变
机译:高频感应耦合等离子体对金刚石的光滑表面干蚀
机译:改进的感应耦合等离子体,用于石英玻璃的高速,超光滑反应相蚀刻
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:电感耦合等离子体蚀刻条件对半极性形成的影响(
机译:工程高速,超光滑反应相玻璃蚀刻在电感耦合等离子体中
机译:电感耦合等离子体(ICp)干蚀刻中三氯化硼/氯气体分子外延生长p型氮化铝镓的刻蚀特性及表面分析