机译:反应磁控溅射Nd掺杂富Si硅薄膜的Nd3 +光致发光研究
Sifcom, CNRS, UMR 6176, Ensicaen, F-14050 Caen, France;
GLASSES; NANOCRYSTALS; LUMINESCENCE; EXCITATION; IONS;
机译:concentration浓度对反应磁控共溅射制得的掺Er富硅二氧化硅薄膜发射特性的影响
机译:1.54μm光致发光对磁控溅射沉积的掺Er富Si SiO2薄膜中过量Si的依赖性
机译:反应磁控溅射制备Nd掺杂SnO2薄膜的结构,光电性能
机译:中频反应磁控溅射Al2O3:Tb薄膜的绿色光致发光
机译:原位光谱椭圆偏振法研究直流反应磁控溅射沉积的硅膜的结晶度和界面结构。
机译:通过射频磁控溅射生长的富硅Al2O3膜:结构和光致发光特性与退火处理的关系
机译:通过射频磁控溅射生长的富硅Al2O3膜:结构和光致发光特性与退火处理的关系