机译:concentration浓度对反应磁控共溅射制得的掺Er富硅二氧化硅薄膜发射特性的影响
SIFCOM UMR CNRS 6176 ENSICAEN 6 Bd Marechal Juin F-14050 Caen Cedex France;
机译:氢反应磁控共溅射合成的掺Er富硅氧化硅层中的emission发射
机译:双频磁控共溅射制备掺Er的TiO2薄膜的结构和光学性能
机译:通过反应磁控溅射获得的ER-掺杂的Si-富含SiO_2 / SiO_2多层的光学性质的优化
机译:通过共溅射制备用于光学放大器的掺Er硅酸盐玻璃薄膜
机译:通过反应磁控溅射沉积的亚稳态钛(0.5)铝(0.5)铝合金薄膜的物理性能。
机译:通过射频磁控溅射生长的富硅Al2O3膜:结构和光致发光特性与退火处理的关系
机译:通过磁控溅射制备的ER-掺杂的Si-Rico2膜中的相变和发光