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【24h】

Electromigration-Induced Void Formation at the Cu5Zn8/Solder Interface in a Cu/Sn-9Zn/Cu Sandwich

机译:Cu / Sn-9Zn / Cu夹层中Cu5 Zn8 / Solder界面上电迁移诱导的空隙形成

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摘要

The electromigration that occurs in a Cu/Sn-9Zn/Cu sandwich was investigated for void formation at room temperature with 103 A/cm2. A focused ion beam revealed that voids nucleated at the intermetallic compound (IMC)/solder interface regardless of the electron flow direction. The needle-like voids initiated at the cathode Cu5Zn8/solder interface due to the outward diffusion of Zn atoms in the Zn-rich phase and expanded as a result of the surface diffusion of Sn atoms upon current stressing.
机译:研究了Cu / Sn-9Zn / Cu夹层中发生的电迁移,在室温下以103 A / cm2 形成空穴。聚焦的离子束显示,无论电子流动方向如何,在金属间化合物(IMC)/焊料界面处形成核的空隙都是如此。针状空隙在阴极Cu5 Zn8 /焊料界面处开始,这是由于富锌相中锌原子的向外扩散所致,并且由于Sn原子随电流的表面扩散而膨胀强调。

著录项

  • 来源
    《Journal of Electronic Materials》 |2008年第10期|1611-1617|共7页
  • 作者

    Shih-Ming Kuo; Kwang-Lung Lin;

  • 作者单位

    Department of Materials Science and Engineering Center for Micro/Nano Science and Technology National Cheng Kung University Tainan 701 Taiwan ROC;

    Department of Materials Science and Engineering Center for Micro/Nano Science and Technology National Cheng Kung University Tainan 701 Taiwan ROC;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

    Electromigration; void;

    机译:电迁移;无效;

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