机译:用于1.3 * um激光器的平面应变InAlGaAs MQW结构生长的禁止温度区域
National Research Council of Canada. Institute for Microstructural Sciences, Building M50-IPF122, 1200 Montreal Rd. Ottawa, Ontario, Canada K1A 0R6;
A1. morphological stability; A3. molecular beam epitaxy; B2. semiconducting aluminium compounds; B3. laser diodes;
机译:高温下的高功率和高效率1.3μmInAsP压缩应变MQW激光器
机译:1.3-ΜmAlGaInAs-InP应变MQW激光器中温度依赖性的实验分析
机译:1.3和1.5 / splμm/ m压缩应变InGaAs(P)MQW半导体激光器的温度依赖性
机译:1.3 / spl mu / m激光器的平面应变InAlGaAs MQW结构生长的禁区
机译:1.55 um铝镓铟砷应变MQW激光二极管。
机译:在不同温度下通过脉冲激光沉积在AlN / Si异质结构上外延生长的GaN薄膜的微观结构和生长机理
机译:MOVPE在氮气氛中以1.55 µm VCSEL生长的InAlGaAs / InP MQW结构
机译:具有锥形增益区域的应变层InGaasp二极管激光器,用于波长= 1.3微米的操作