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机译:接近体积极限的平面体金属氧化物半导体场效应晶体管浅结的电子全息分析
机译:电子全息图表征30nm门控长度的金属氧化物半导体场效应晶体管中的超浅结
机译:用于金属氧化物半导体场效应晶体管的铋离子注入固相外延生长浅结
机译:30纳米以下栅极长度的金属氧化物半导体场效应晶体管中表面电势对栅极电压施加的响应的原位电子全息图
机译:十米级肖特基势垒金属氧化物半导体场效应晶体管的快速热退火技术形成Formation硅化源漏结。
机译:基于N沟道InGaAsP-InP的倒置通道技术器件(ICT)的设计,制造和表征,用于光电集成电路(OEIC):双异质结光电开关(DOES),异质结场效应晶体管(HFET),双极倒置沟道场-效应晶体管(BICFET)和双极型反向沟道光电晶体管(BICPT)。
机译:金属氧化物半导体场效应晶体管剂量计在计算机断层摄影辐射剂量测定中的校准和误差分析
机译:使用超薄绝缘体上硅金属氧化物半导体场效应晶体管中的外延NiSi2晶化精确控制结位置
机译:低于100纳米沟道长度的金属氧化物半导体场效应晶体管的电子速度过冲在77和30 K