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机译:氮化硅的Si面4H-SiC MOSFET的反型层中的载流子传输特性
Mitsubishi Electr Corp, Adv Technol R&D Ctr, 8-1-1 Tsukaguchi Honmachi, Amagasaki, Hyogo 6618661, Japan;
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Univ Tokyo, Dept Mat Engn, Bunkyo Ku, 7-3-1 Hongo, Tokyo 1138656, Japan;
Mitsubishi Electr Corp, Adv Technol R&D Ctr, 8-1-1 Tsukaguchi Honmachi, Amagasaki, Hyogo 6618661, Japan;
机译:具有大密度界面状态的MOS反转层中载波散射的建模及4H-SIC MOSFET中的电子霍尔迁移率模拟
机译:4H-SiC MOSFET中反型层载流子浓度和霍尔迁移率的温度依赖性
机译:4H-SiC电容器和MOSFET中氮化原子层沉积氧化物的研究
机译:Si-Face(0001)和A形(11-20)4H-SiC上的MOSFET器件的通道迁移率和氧化物特性的比较
机译:对高级碳化硅功率MOSFET的反型层中电子传输的研究。
机译:1°偏角的4H-SiC硅面同质外延层生长过程中3C夹杂物形成的抑制
机译:层状结构六方氮化硼中的载流子传输性质
机译:具有氮化氧化物栅极电介质的mOsFET的反型层迁移率