机译:外延硅沉积的基于模型的均匀性控制
elemental semiconductors; process control; semiconductor epitaxial layers; semiconductor growth; semiconductor process modelling; silicon; thickness control; Centura tool; Si; epitaxial deposition; lot-to-lot control; model-based uniformity control; multi-objective;
机译:硅减压化学气相沉积外延层中非均匀砷分布的受控生长
机译:硅减压化学气相沉积外延层中非均匀砷分布的受控生长
机译:高度均匀的种子 - 无均匀原子层沉积 2 sub> 2 O. 3 sub> 3 薄膜在碳化硅上的单层外延石墨烯上
机译:使用低能量硅离子具有高沉积速率的离子辅助沉积硅外延膜
机译:使用远程等离子体化学气相沉积沉积外延硅/硅锗/锗和新型高k栅极电介质。
机译:化学溶液沉积法在硅上制备大孔外延石英薄膜
机译:用于外延硅沉积的集成的基于模型的运行 - 运行均匀性控制。