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Numerical analysis of GaAs MESFETs with p-buffer layer on semi-insulating substrate including deep traps

机译:具有深陷阱的半绝缘衬底上带有p缓冲层的GaAs MESFET的数值分析

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摘要

Numerical analysis of GaAs MESFETs with a p-buffer layer on the semi-insulating substrate is presented in which impurity compensation by traps is included. Using a p-buffer layer is shown to be effective in minimising the short-channel effects as in the case of using a substrate with high density of traps.
机译:提出了在半绝缘衬底上具有p缓冲层的GaAs MESFET的数值分析,其中包括通过陷阱进行的杂质补偿。与使用具有高陷阱密度的衬底的情况一样,显示出使用p缓冲层在最小化短沟道效应方面是有效的。

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