机译:具有深陷阱的半绝缘衬底上带有p缓冲层的GaAs MESFET的数值分析
Shibaura Inst. of Technol., Tokyo, Japan;
III-V semiconductors; Schottky gate field effect transistors; electron traps; gallium arsenide; MESFETs; deep traps; density; impurity compensation; numerical analysis; p-buffer layer; semi-insulating substrate; short-channel effects;
机译:具有深陷阱补偿的半绝缘衬底上具有p缓冲层的GaAs MESFET的数值模拟
机译:半绝缘衬底上GaAs MESFET的深层陷阱相关频率相关的输出电导和电容的数字小信号AC建模
机译:深阱补偿的半绝缘衬底上GaAs MESFET的数值模拟
机译:GaAs MESFET的二维模拟,包括载流子的碰撞电离和半绝缘衬底中的载流子捕获
机译:闪锌矿相氮化镓,立方相碳化硅和砷化镓MESFET的分析,包括全频带Monte Carlo模拟器
机译:在(100)和(311)B GaAs衬底上生长的GaAs / AlGaAs多量子阱的深层瞬态光谱
机译:有源层–半绝缘衬底界面对GaAs MESFET组件的影响
机译:载流子注入到mEsFET衬底中的影响:mEsFET在半绝缘缓冲器,p衬底上的mEsFET和无衬底mEsFET上的比较