一种集成电路,包括半绝缘半导体衬底21;和p ** + 28埋层;漏极和源极区25、26为n ** +型;栅电极24覆盖沟道层22;仅在沟道层下方形成p **-27区域。掩埋层28完全围绕漏极和源极区域。这种结构提高了抵抗由于暴露于α辐射而导致的逃犯错误的能力。 P>
公开/公告号FR2616271A1
专利类型
公开/公告日1988-12-09
原文格式PDF
申请/专利号FR19880007364
申请日1988-06-02
分类号H01L27/06;H01L29/06;H01L29/80;
国家 FR
入库时间 2022-08-22 06:30:08