机译:氟注入剂量对Si {sub}(1-x)Ge {sub} x中硼瞬态增强扩散和硼热扩散的影响
Boron diffusion; Diffusion suppression; Fluorine; Heterojunction bipolar transistors (HBTs); Si{sub}(1-x)Ge{sub}x; Thermal diffusion; Transient enhanced diffusion (TED);
机译:通过氟注入抑制硼在硅和硅锗中的瞬态增强扩散
机译:氟注入剂量对硼在硅中热扩散的影响
机译:Si-和Si_xGe_(1-x)超浅结注入后和高级快速热退火中硼扩散的非高斯局部密度扩散(LDD-)模型。
机译:氟对硼瞬态增强扩散的化学作用
机译:离子注入引起的硼掺杂硅瞬态失活和扩散过程的物理学和建模。
机译:由聚乙烯醇(PVA)和硼酸共聚物制备的用于阳离子扩散渗析的复合阳离子交换膜
机译:氟注入剂量对si1-xGex中硼瞬态增强扩散和硼热扩散的影响
机译:从超低能量硼注入中硼增强硼的扩散