机译:氮化镓基MIS-HEMT的低压化学气相沉积法表征SiN
Department of Electronic and Computer Engineering, The Hong Kong University of Science and Technology, Hong Kong;
Gallium nitride; gate dielectric; low-pressure chemical vapor deposition (LPCVD); silicon nitride; silicon nitride.;
机译:低压化学气相沉积SiN
机译:具有等离子体化学气相沉积SiN栅极电介质的InAlN / AlN / GaN场致MIS-HEMT
机译:具有低压化学气相沉积SiN_x栅极电介质的常关GaN MIS-FET的偏置温度不稳定性
机译:使用AlN / SiN作为栅极介电层和钝化层的低电流塌陷和低泄漏GaN MIS-HEMT
机译:栅极电介质的纳米结构和纳米化学,以及通过化学气相沉积进行的可调电介质处理。
机译:使用极薄的栅极介电层综合电离剂量效应的全电离剂量效应
机译:远程库仑和界面粗糙度散射对InGaas <斜体> n italic> mOsFET电子迁移率的影响高<斜体> k 斜体>叠层栅极介质