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机译:通过将氧化铟层作为氧离子存储层插入基于HFO 2的电阻随机存取存储器中的氧化铟层来提高性能
Natl Tsing Hua Univ Inst Elect Engn Hsinchu 30013 Taiwan;
Natl Sun Yat Sen Univ Dept Mat & Optoelect Sci Kaohsiung 80424 Taiwan;
Natl Sun Yat Sen Univ Dept Phys Kaohsiung 80424 Taiwan|Natl Sun Yat Sen Univ Ctr Crystal Res Kaohsiung 80424 Taiwan;
Natl Tsing Hua Univ Inst Elect Engn Hsinchu 30013 Taiwan;
Natl Sun Yat Sen Univ Dept Mat & Optoelect Sci Kaohsiung 80424 Taiwan;
Natl Sun Yat Sen Univ Dept Mat & Optoelect Sci Kaohsiung 80424 Taiwan;
Natl Sun Yat Sen Univ Dept Mat & Optoelect Sci Kaohsiung 80424 Taiwan;
Natl Sun Yat Sen Univ Dept Phys Kaohsiung 80424 Taiwan;
Natl Sun Yat Sen Univ Dept Mat & Optoelect Sci Kaohsiung 80424 Taiwan;
Natl Sun Yat Sen Univ Dept Mat & Optoelect Sci Kaohsiung 80424 Taiwan;
Natl Sun Yat Sen Univ Dept Mat & Optoelect Sci Kaohsiung 80424 Taiwan;
Natl Sun Yat Sen Univ Dept Mat & Optoelect Sci Kaohsiung 80424 Taiwan;
Natl Chiao Tung Univ Dept Elect Engn Hsinchu 30010 Taiwan;
Indium oxide; oxygen ion reservoir; resistive random access memory (RRAM);
机译:通过在基于HfO 2 sub>的电阻随机存取存储器中插入铟锡氧化物层作为氧离子存储库来稳定电阻开关特性
机译:铟锡氧化物电极中的大量氧离子存储可改善基于HfO 2 sub>的电阻型随机存取存储器的性能
机译:通过在基于HfO 2 sub>的电阻型随机存取存储器中的铟锡氧化物电极中掺杂Ga来提高性能
机译:氧含量和覆盖金属层对基于HfO
机译:界面上电极层对基于氧化铌的电阻型随机存取存储器性能的影响
机译:通过批量原子层沉积处理的基于HfO2的集成式1晶体管1电阻阻性随机存取存储器的材料见解
机译:基于HFO2的集成1晶体管-1电阻器电阻随机存取存储器的材料见解,由批量原子层沉积处理
机译:原子层沉积(aLD) - 沉积二氧化钛(TiO2)厚度对Zr40Cu35al15Ni10(ZCaN)/ TiO2 /铟(In)基电阻随机存取存储器(RRam)结构性能的影响。