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【24h】

Characterization of Erbium-Silicided Schottky Diode Junction

机译:硅化肖特基二极管结的表征

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摘要

Trap density, lifetime, and the Schottky barrier height of erbium-silicided Schottky diode are evaluated using equivalent circuit method. The extracted trap density, lifetime, and Schottky barrier height for hole are determined as 1.5 × 10{sup}13 traps/cm{sup}2, 3.75 ms and 0.76 eV, respectively. By using the developed method, the interface of the Schottky diode can be evaluated quantitatively.
机译:使用等效电路方法评估了化硅的肖特基二极管的陷阱密度,寿命和肖特基势垒高度。所提取的空穴的陷阱密度,寿命和肖特基势垒高度分别确定为1.5×10 {sup} 13个陷阱/cm{sup}2、3.75 ms和0.76 eV。通过使用开发的方法,可以定量评估肖特基二极管的界面。

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