机译:45纳米复位状态相变存储设备中的$ hbox {1} / f $噪声:表征,对存储器读出操作的影响和缩放角度
Technology and Device Modeling Team, Process R&D, Micron Technology , Agrate Brianza, Italy;
$hbox{1}/f$ noise; $hbox{Ge}_{2}hbox{Sb}_{2}hbox{Te}_{5}$ (GST); Amorphous materials; Phase Change Random Access Memory (PCRAM); Phase-Change Memory (PCM); chalcogenides; low-frequency noise; scaling;
机译:基于$ hbox {Ge} _ {1} hbox {Sb} _ {4} hbox {Te} _ {7} $的相变存储器件的热应力分析
机译:具有$ hbox {Si} _ {3} hbox {N} _ {{4} / hbox {Al} _ {2} hbox {O} _ {{3} / hbox {HfO} _)的电荷陷阱非易失性存储设备中的增强操作{2} $电荷陷阱层
机译:$ hbox {Al} / alphahbox {-TiO} _ {X} / hbox {Al} $双极开关电阻随机存取存储设备中的传导和低频噪声分析
机译:两步5b对数ADC,最小步长为满量程的0.1%,用于MLC相变存储器读出
机译:定标的多介质非易失性存储器件的物理特性
机译:碲化锗相变存储器件中通过缺陷工程实现的超低功耗开关
机译:相变异质结构使UltraLow噪声能够进行存储器操作